（仅供参考）化学气相沉积 - 图文

化学气相沉积——CVD方法简介?立式：立式特点：气流垂直于基体，并且以基板为中心均匀分布，均匀性好。转桶式特点：能对大量基片同时进行外延生长，均匀性好、膜层厚度一致、质地均。化学气相沉积——CVD方法简介等温球体：沉积区为球形，基片受热均匀，反应气体均匀供给，均匀性好化学气相沉积——CVD方法简介??封闭式（闭管沉积系统）CVD反应物和基体分别放在反应器的两端，管内抽空后，充入一定的输运气体，再将反应器置于双温区炉内，使反应管形成温度梯度。由于温度梯度造成的负自由能变化，是传输反应的推动力，所以物料从管的一端传输到另一端并沉积下来。理想状况下，闭管反应器中进行的反应平衡常数接近于1。如果平衡常数太大或太小，反应中就至少有一种物质的浓度很低，从而使反应速度变慢。由于这种的反应器壁要加热，称为热壁式。化学气相沉积——CVD方法简介T1沉积区T2源区T化学气相沉积——CVD方法简介闭管法的优点：污染的机会少，不必连续抽气保持反应器内的真空，可以沉积蒸气压高的物质。闭管法的缺点：材料生长速率慢，不适合大批量生长，一次性反应器，生长成本高；管内压力检测困难等。闭管法的关键环节：反应器材料选择、装料压力计算、温度选择和控制等。