9.试从图4-13求杂质浓度为10cm和10cm的Si,当温度分别为-50C和+150C时的电子和空穴迁移率。
16-318-3OO
解:电子和空穴的迁移率如下表,迁移率单位cm2/(V.S)
浓度 1016cm-3 1018cm-3 温度 -50OC +150OC -50OC +150OC 电子 2500 750 400 350 空穴 800 600 200 100 10.试求本征Si在473K时的电阻率。
解:查看图3-7,可知,在473K时,Si的本征载流子浓度ni?5.0?1014cm?3,在这个浓度下,查图4-13可知道un?600cm2/(V?s),up?400cm2/(V?s)
11.截面积为10-3cm2,掺有浓度为1013cm-3的p型Si样品,样品内部加有强度为103V/cm的电场,求;
①室温时样品的电导率及流过样品的电流密度和电流强度。
②400K时样品的电导率及流过样品的电流密度和电流强度。
解:
①查表4-15(b)知室温下,浓度为10cm的p型Si样品的电阻率为??2000??cm,则电导率为??1/??5?10?4S/cm。
13-3
电流密度为J??E?5?10?4?103?0.5A/cm2
电流强度为I?Js?0.5?10?3?5?10?4A
②400K时,查图4-13可知浓度为1013cm-3的p型Si的迁移率约为up?500cm2/(V?s),则电导率为??pqup?1013?1.602?10?19?500?8?10?4S/cm
电流密度为J??E?8?10?4?103?0.8A/cm2
电流强度为I?Js?0.8?10?3?8?10?4A
12.试从图4-14求室温时杂质浓度分别为1015,1016,1017cm-3的p型和n型Si样品的空穴和电子迁移率,并分别计算他们的电阻率。再从图4-15分别求他们的电阻率。
浓度(cm-3) 1015 1016 1017 N型 P型 N型 P型 N型 P型 迁移率(cm/(V.S))(图4-14) 1300 500 1200 420 690 2240 电阻率ρ(Ω.cm) 4.8 12.5 0.52 1.5 0.09 0.26 电阻率ρ(Ω.cm)(图4-15) 4.5 14 0.54 1.6 0.085 0.21 硅的杂质浓度在10-10cm范围内,室温下全部电离,属强电离区,n?ND或p?NA
11或?? pqupnqun1517-3
电阻率计算用到公式为??13.掺有1.1?1016硼原子cm-3和9?1015磷原子cm-3的Si样品,试计算室温时多数载流子和少数载流子浓度及样品的电阻率。
解:室温下,Si的本征载流子浓度ni?1.0?1010/cm3 有效杂质浓度为:NA?ND?1.1?1016?9?1015?2?1015/cm3多数载流子浓度p?NA?ND?2?1015/cm3
??ni,属强电离区
ni1?1020少数载流子浓度n???5?104/cm3 15p02?10总的杂质浓度Ni?NA?ND?2?1016/cm3,查图4-14(a)知,
2up多子?400cm2/V?s,un少子?1200cm2/V?s
电阻率为
14.截面积为0.6cm2、长为1cm的n型GaAs样品,设un=8000 cm2/(V?S),n=1015cm-3,试求样品的电阻。
解:??11??0.78?.cm -1915nqun1.602?10?1?10?8000电阻为R??l?0.78?1/0.6?1.3? s15.施主浓度分别为1014和1017cm-3的两个Ge样品,设杂质全部电离:
①分别计算室温时的电导率;
②若于两个GaAs样品,分别计算室温的电导率。
解:查图4-14(b)知迁移率为
施主浓度 1014 cm-3 1017cm-3 样品 Ge 4800 3000 GaAs 8000 5200 Ge材料,
浓度为1014cm-3,??nqun?1.602?10-19?1?1014?4800?0.077S/cm 浓度为1017cm-3,??nqun?1.602?10-19?1?1017?3000?48.1S/cm
GaAs材料,
14-3
浓度为10cm,??nqun?1.602?10-19?1?1014?8000?0.128S/cm
浓度为1017cm-3,??nqun?1.602?10-19?1?1017?5200?83.3S/cm
16.分别计算掺有下列杂质的Si,在室温时的载流子浓度、迁移率和电阻率:
①硼原子3?1015cm-3;
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