加热
②Si＋2Cl2=====SiCl4
高温
③SiCl4＋2H2=====Si(纯)＋4HCl
下列对上述三个反应的叙述中不正确的是( ) A．①③为置换反应 B．①②③均为氧化还原反应 C．③中SiCl4是氧化剂
D．三个反应的反应物中的硅元素均被还原 【解析】 在反应②中Si被氧化。 【答案】 D
高温
14．工业上制取金刚砂(SiC)的化学方程式为：SiO2＋3C=====SiC＋2CO↑。在这个氧化还原反应中，氧化剂与还原剂的物质的量之比是( )
A．1∶2 C．1∶1
B．2∶1 D．3∶5
【解析】 反应中C→SiC，C元素化合价降低，发生还原反应，该部分C单质作氧化剂；反应中C→CO，C元素化合价升高，发生氧化反应，该部分C单质做还原剂。
【答案】 A
15．硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如下：
焦炭HCl精馏H2石英砂――→粗硅――→SiHCl3(粗)――→SiHCl3(纯)――→高纯硅
高温573 K以上1 357 K①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式：
____________________________________________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式：____________________；
H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
____________________________________________________________。 (2)下列有关硅材料的说法正确的是______(填字母)。 A．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 B．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
【解析】 本题考查对质量守恒定律的理解；从信息中准确提取实质性内容，并与已有知识整合，重组为新知识的能力；用正确的化学术语进行解释的能力。 (1)①根据给定的
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反应物和生成物写出化学方程式，注意反应条件和配平。②写出反应物和给出的生成物H2SiO3和HCl，用原子守恒法找出另一种生成物H2，并配平。 用途可知，说法正确。B项盐酸和硅不反应。
高温
【答案】 (1)①SiHCl3＋H2=====Si＋3HCl ②SiHCl3＋3H2O===H2SiO3↓＋3HCl↑＋H2↑
氧气与氢气混合，可能引起爆炸；氧气可能会氧化SiHCl3 (2)A选项由硅的化合物的
(2)A
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