Roll-to-Roll磁控溅射系统设计
图5-16 进气口开在旁边时的气体速度分布图
图5-17 进气口开在旁边时的气体速度的剖视图
从图5-12、5-13、5-14、4-15、5-16、5-17六副图中，我们可以看出，当进气口开在中间时，气体流速从进口处到出口处速度不断减小，气流分布从中间向四周递减。而当进气口开在旁边时，气流速度也是从进气口处到出气口处递减，而气流
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分布却是在进气口处的另一端比较均匀的分布，镀膜时，我们要求的是在镀膜一侧的气流要均匀，所以，把进气口开在旁边能够符合要求。
综上分析，通过压强分析我们知道，进气端和出气端所受压强较大，需要进行加强处理。所以我在设计时把进气端处的壁厚加厚为40mm,而出气端，由于，有一挡板的阻挡作用，可以减轻压强对出气端的作用。在原始设计时就考虑了压强的作用，所以此处可以不需要对出气端处的壁进行加厚。而通过气体速度分布我们知道，当把进气口开在中间，会使气体流速分布不均匀，而开在旁边，可以使镀膜一侧的气体流速较中间的更均匀，所以我将把进气口安排在旁边。
5.4 Roll-to-roll磁控溅射系统设计
（1） 卷绕系统和溅射系统的设计
图6-1 卷绕系统图和溅射系统示意图
本设计中的卷绕系统为主要为一个放卷辊，一个收卷辊，和一个冷却辊组成。镀膜时基体的运动方式如图红色箭头所示，基体由放卷辊到冷却辊完成三种不同材料的镀膜，然后被卷绕到收卷辊上，从而完成一个镀膜过程。
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本设计中采用三个磁控溅射矩形靶座同时对基体进行镀膜。该镀膜方法不但避免了由于反复装换靶材而影响已镀薄膜的性能，而且可以镀制更高性能的功能膜，还大大的节省了镀膜时间。 (2) 冷却系统的设计
为了得到更高性能的功能薄膜，要使镀膜室温度保持在室温下，该系统需要配置冷却系统。一下为我设计的水冷系统。图6-2
图6-2 水冷系统
该水冷系统最好的一面是避免与真空室直接相连，即水冷系统是独立的。该水冷系统既实现了对基体的冷却，又不会影响真空室的真空度。 (3) 卷绕系统的装配图
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致谢
衷心地感谢王旭迪老师在设计过程中给我的精心指导和帮助，无论从资料的收集还是工程图的改进，都使我在毕业设计的两个月里受益匪浅。虽然刚开始感觉他给的任务挺多，觉得不可能完成，但是最后还是完成了。在这个毕业设计的过程中，他给了我很多的帮助和启示，使我认识到了自己的不足，遇到问题，不能逃避，而是要勇敢地面对，最后解决问题。这次毕业设计一定会对我今后的学习和发展起到重要的作用。
至此论文完成之际，再次向我的导师表示衷心的感谢和崇高的敬意！
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