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KOLON干膜培训资料.pp t

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?图形电镀的铜面微蚀(粗化):药水类型:

过硫酸铵, 过硫酸钠, 过氧化物目的:

清除露铜面的氧化物, 粗化露铜面.作用:

使上下两层铜面结合紧密,避免甩铜.

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?图形电镀的硫酸预浸:目的及作用:

1. 去除露铜面上残存的微量氧化物;2. 避免板上的露铜面氧化;

3. 使制板在硫酸溶液中预先浸润,为下一步酸铜电镀作好准备.

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?图形电镀的硫酸铜(CuSO4):

硫酸铜是镀液中的主盐,它在水溶液中电离出铜离子,铜离子在阴极上获得电子沉积成铜镀层,硫酸铜的浓度一般控制在55~100克/升,提高硫酸铜的浓度可以提高允许的电流密度,避免高电流区烧焦;但是,硫酸铜(CuSO4)浓度过高,会降低镀液的分散能力。

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?图形电镀的硫酸(H2SO4):

硫酸的主要作用是增加溶液的导电性.硫酸的浓度对镀液的分散能力和镀层的机械性能均有影响:

1. 若硫酸的浓度太低,镀液的分散能力下降;

2. 若硫酸的浓度过高,虽然镀液的分散能力较好,但是,镀层的延展性会降低.

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