各种材料学分析测试技术总结

原理 OM 光学显微镜 optical 显微镜是利用凸透镜的放大成像原理，将人眼不能分辨的微小物体放大大于0.2nm 看不清亚结构 到人眼能分辨的尺寸，其主要是增大microscope 近处微小物体对眼睛的张角（视角大的物体在视网膜上成像大），用角放大率M表示它们的放大本领。 EDS 能谱仪 (Energy 各种元素具有自己的X射线特征波长，特征波长的大小则取决于能级跃迁过程中释放出的特征能量△E，能谱仪就探头：一般为Si(Li)锂硅半导体探头 探测面积：几平方毫米 Dispersive 是利用不同元素X射线光子特征能量Spectromete分辨率（MnKa）：～133eV r) （分为点、线、面扫map） 不同这一特点来进行成分分析的。 SEM 扫描电子显微镜 （scanning 利用二次电子信号成像来观察样品的表面形态，即用极狭窄的电子束去扫描样品，通过电子束与样品的相互作可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像 分辨率：3-4nm 放大倍数：20万倍 利用聚焦得非常细的高能电子束在试样用产生各种效应，其中主要是样品的特征X射线、背散射电上扫描，激发出各种物理信息。通过对这二次电子发射 子的产生过程均与样品些信息的接受、放大和显示成像，获得测原子性质有关，可用于介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段 其工作原理是用一束极细的电子束扫描由于电子束只能穿透很当一束极细的高能入射电子轰击扫描样品表面时，被激发的区域将产生二样品，在样品表面激发出次级电子，次级浅表面，只能用于表面电子的多少与电子束入射角有关，也就是试试样表面形貌的观察。 成分分析。 electron microscope） 次电子、俄歇电子、特征x射线和连说与样品的表面结构有关，次级电子由探分析。 有很大的景深，视野大，续谱X射线、背散射电子、透射电子，测体收集，并在那里被闪烁器转变为光信以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。 SEM是利用电子和物质的相互作用，可形象，反映了标本的表面结构。 以获取被测样品本身的各种物理、化学性质的信息，如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。主要是利用二次电子信号成像来观察样品的表面形态，即用极狭窄的电子束去扫描样品，通过电子束与样品的相互作用产生各种效应，其中主要是样品的二次电子发射。 目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪装置，这样可以同时进行显微组织性貌的观察和微区成分分析 试样制备简单。 号，再经光电倍增管和放大器转变为电信成像立体，可直接观察号来控制荧光屏上电子束的强度，显示出表面的细微结构； 与电子 束同步的扫描图像。图像为立体TEM 透射电镜(transmissi 把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子与样品中的原子与光学显微镜的成像原理基本一样，所不0.2nm 同的是前者用电子束作光源，用电磁场作近百万倍 透镜。 亚显微结构、超微结构 透射电镜是以电子束透过样品经过聚焦使用透射电子显微镜可以用于观察样品的精细结构，甚至可以用于观SEM是电子束激发出表面次级电子,而TEM察仅仅一列原子的结是穿透试样,而电子束穿透能力很弱,所构，比光学显微镜所能以TEM样品要求很薄, 够观察到的最小的结构小数万倍。 on electron 碰撞而改变方向，从而产生立体角散microscope 射。散射角的大小与样品的密度、厚度相关，因此可以形成明暗不同的影与放大后所产生的物像，?投射到荧光屏像，影像将在放大、聚焦后在成像器上或照相底片上进行观察 件上显示出来。 由于电子波长非常短，透射电子显微镜的分辨率比光学显微镜高的很多，可以达到0.1～0.2nm，放大倍数为几万～百万倍。 sem SEM的样品中被激发出来的二次电子TEM可以标定晶格常数，从而确定物相结SEM是扫描电镜，所加