CMOS模拟集成电路设计实验报告
姓名:小明 班级:XXXX 学号:2011XXXXXXXXX 指导老师:王XX
一、 实验目的
学习和掌握EDA 仿真软件Hspice;了解CMOS 工艺技术及元器件模型,掌握 MOSFET 工作原理及其电压电流特征; 通过仿真和计算,获得CMOS 中NMOS 和PMOS的工艺参数,为后续实验作准备。
二、 实验内容
用0.18μm CMOS工艺完成以下设计: 1、 安装和设置Hspice
2、仿真获得PMOS 和NMOS 的工艺参数Kp,Kn,Vtp,Vtn,?p,?n
。
三、实验步骤与结果分析
1、按照实验指导书要求下载/安装/设置Hspice仿真软件
2、步骤一:在本机目录C:\\synopsys\\中,建一子目录 “project”, 并从指 定目录中download 工艺库文件 (1) tsmc_025um_modellib (2) tsmc_035um_model.lib (3) tsmc_050um_model.lib (4) tsmc_018_model.lib (5) ibm_013um_model.lib
3、在目录C:\\synopsys\\ project\\中,建一子目录 “lab1”用于实 验一的工作目录。
步骤三:在目录C:\\synopsys\\ project\\ lab1中,用编辑器Notepad 产生 一个文件 nmos_para.sp
4、从本机的“start开始”,打开Hspice_2008用户界面Hspui
A-2008.03-SPI;在用户界面窗口,从文件File 到open,打开目录C:\\synopsys\\
project\\ lab1 下Hspice 文件nmos_para.sp 5、点击“Simulate”, 仿真完成。
6、双击 “Avanwaves”,测量仿真结果。在“Result Browser”窗口, 移动鼠标并点击选择仿真结果 sw0: DC nmos I-V Characteristics; 在Type 中 选currents, 在Curves 中,双击I(M1;在AvaneWaves,显示NMOS 在Vgs 为0.8v和1v 时的I-V Characteristics
7、移动鼠标到AvanWaves窗口,点鼠标器右键,选“Grid off“; 点 击左上角菜单中”Windows”,选”Flip Color“;点击左上角WaveList 中 Do:Sw0:i(m1),移动鼠标到菜单中的”Panels“,选择”Edit Curve“修改仿真 输出曲线的颜色。
8、在AvanWaves中,用菜单中的“Measures”, 如用pointToPoint
分别测量Vin(Vgs)为0.8v 和1v 输出线上, Vout (Vds)为1v 和1.5v 时的电流。
9、测量pmos 工艺参数的 Hspice 文件:
测量nmos I-V characteristics: Ids Vgs
10、重复步骤三到步骤九,测TSMC 0.18um工艺中pmos.
0.8V 1.0V 1.0V 10.2uA 23.5uA Vds 1.5V 10.9uA 24.5uA 测量pmos 工艺参数的 Hspice 文件:
测量pmos I-V characteristics: ∣Ids∣ ∣Vgs∣ 0.8V 1.0V 1.0V 33.8uA 77.6uA ∣Vds∣ 1.5V 35.8uA 80.6uA
11、pmos、nmos I-V characteristics曲线图:
12、结论:Kp,Vtp和λp:
TSMC 0.18um工艺参数: λn≈0.16 Vth≈0.41V Kn≈16uA/V2
λp≈0.109 ∣Vtp∣≈0.406V Kn≈53.85 uA/V2 四、结论和分析
1、通过这次实验,我进一步熟悉了课堂上的理论内容,对所学的知识起到了巩固加强;
2、通过理论联系实际,加强了我的实际动手能力;
3、通过学习Hspice的基本功能,掌握了分析、仿真NMOS、PMOS及测量参数的方法。
2014.X.X
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