Silvaco操作指南-53页

第二篇 Silvaco软件使用指南

第三章 扩散二极管仿真

2.1 硼扩散

要通过扩散来创建一个P+/n 二极管，找到Commands... Process.... Diffuse 则一个弹出菜单如图22所示。如图23一样填空并点击write。

Figure 22: 扩散菜单.

第一个阶段为升温阶段，时间为13分钟，温度从900度到1100度，漫(ramped)形式。温度速率可自动计算为153C/min。在氮气条件下扩散。气压为1个标准大气压。掺杂杂质为硼，浓度为5Χ1021atom/cm3。

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Figure 23: 在氮气下的Ramp Diffusion

第二个阶段为恒定保持阶段，进行恒定形式的硼扩散，温度为1100度，时间为60分钟，其它条件相同。如图24所示。

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Figure 24: 60 分钟 B 扩散

第三个阶段为降温过程，温度从1100度下降到900度。扩散形式为Ramped,时间为40分钟。其它条件相同。 如图25所示。

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Figure 25: 漫下扩散(Ramp down Diffusion).

最终写到deck的语句如下：

要为抽取所做扩散层的薄片电阻及结深，选择Commands.. Extract，如图27填充表单，来进行电阻抽取。