热丝化学气相沉积法制备纳米金刚石薄膜(23)

热丝化学气相沉积

热丝化学气相沉积法制各纳米金刚石薄膜

２ＨＦＣＶＤ方法制备纳米金刚石薄膜的设备及工艺简介

热丝化学气相沉积（ＨＦＯＶＤ）方法简介

１实验设备简介

金刚石膜的热丝（ＨＦ）ＣＶＤ目前已经发展成沉积金剐石膜较为成熟的方法之一。２．１２１这种方法的基本原理是，衬底上方的高温金属热丝加热分解含碳的气体，形成活性的粒子在原子氢的作用下而形成金刚石。图２．１为本实验所采用的沉积设各实物照片。

图２ｌＨＦＣＶＤ沉积金刚石薄膜设备照片

ＴｈｅＦｉｇ．２１ＰｈｏｔｏｏｆａＨＦＣＶＤｃｈａｍｂｅｒ

罔２．２是本实验室在传统的热丝化学气相沉积系统的基础上稍加改造的实验装置示意图。在真卒定Ｅ罩新增加了一个衬底，外加电源为脉冲直流电源，电源电压、占空比和频率分别在０“０００Ｖ、¨１００％和０－－１０ＫＨｚ范尉内连续可调。

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