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硅烷偶联剂KH570对纳米SiO_2的表面改性及其分散稳定性(5)

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第9期 苏瑞彩等:硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2的表面改性及其分散稳定性

·1599·

度得益于表面静电斥力的增加。 2.1 FTIR分析

红外光谱反映了有机化合物的分子结构,根据特征吸收峰可以判别化合物的官能团。对纳米SiO2及其改性样品进行了红外光谱分析(图6)。

---

在图6中,477 cm1、808 cm1、1105 cm1、--

1640 cm1、3412 cm1处存在特征吸收峰,在1000~

-1-1

1150 cm和808 cm处是纳米SiO2表面Si—O的

1640 cm1处是O—H的弯曲振动伸缩振动吸收峰,-

3412 cm1处为Si—O—H基伸缩振动吸收吸收峰,

峰和O—H的伸缩振动吸收峰,它可归因于纳米SiO2微粒表面的羟基和吸附水的存在[10]。与文献[11]中KH570改性后的纳米SiO2的红外光谱相比,图7中没有出现明显的C=O吸收峰,同样,在近期的几篇相关文献报道中也没有出现C=O的特征吸

分析是因为改性过程中硅烷偶联剂相对收峰[1213],

红外光谱中没有出现明显纳米SiO2的的用量很少,

的C=O特征吸收峰。

透光率

4000

35003000

2500 2000 1500 1000

波数/cm1

500

图7 改性后纳米SiO2红外光谱图

3 结 论

使用硅烷偶联剂KH570在无水乙醇和水体积比为3︰1的混合溶液中对纳米SiO2进行表面改性,可以使改性剂有效的包覆粉体表面,改性后的纳米SiO2粉体在有机溶剂乙醇中的分散稳定性得到有效提高,可以使其在有机物质的添加使用中更好发挥作用。

参 考 文 献

[1] 禹坤. 纳米二氧化硅的生产及应用现状[J]. 现代技术陶瓷,2005

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[3] Xiong Mingna,Wu Limin,Zhou Shuxue,et al. Preparation and

characterization of acrylic latex/nano- SiO2 composites[J]. Society of Chemical Industry,2002,51:693-698.

1.00.8

透光率

0.60.40.20

[4] 刘吉平,廖莉玲. 无机纳米材料[M]. 北京:科学出版社,2003:45-46. [5] 倪星元,沈军,张志华. 纳米材料的理化特性与应用[M]. 北京:

500

化学工业出版社,2006:92-93.

4000 3500 3000 25002000 1500 1000

波数/cm1

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艺研究[J]. 表面技术,2006(10):34-36.

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